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El mecanismo de formación de películas de la tinta a base de agua curable UV es muy importante para la preparación de tinta UV a base de agua. Solo comprendiendo todo el proceso de formación de películas de curado podemos encontrar una base teórica en la selección de resina, iniciador y agua.
El mecanismo de secado del sistema de curado UV a base de agua sigue siendo controvertido en la actualidad. En general, se cree que el mecanismo de secado de la tinta UV a base de agua es:
Después de que el dispositivo de secado se retira el agua, bajo la irradiación de los rayos ultravioleta, el fotoiniciador absorbe la energía de radiación y se descompone en radicales libres o cationes, lo que hace que el polímero experimente polimerización, reticulación e reacciones de injerto y se solidifique en tres -Dimensional Polímero reticular en poco tiempo. El sistema de curado de radiación se puede dividir en el sistema de radicales libres y el sistema catiónico de acuerdo con los diferentes tipos de fotoiniciadores. Dado que el sistema de radicales libres a menudo se usa en la tinta de curado de radiación, se recomienda utilizar un sistema de radicales libres en el desarrollo de la tinta UV a base de agua.
(1) la interacción entre la luz y el fotoiniciador, que puede incluir la absorción de la luz y la interacción entre los fotoiniciadores;
(2) Las moléculas fotoiniciantes se reorganizan para formar intermedios de radicales libres;
(3) el radical libre reacciona con un grupo insaturado en oligómero para iniciar la reacción de cadena o polimerización;
(4) La polimerización continúa, y los componentes líquidos se transforman en polímeros sólidos.
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